3M CMP 墊調節器用於 半導體
一致、可靠的CMP研磨盤
在半導體製造過程中，性能一致性、可靠性和良率在工藝的每個環節都至關重要。 25年來，3M™ CMP研磨盤為全球知名的半導體製造商提供了創新的研磨盤解決方案。
經歷了從燒結鑽石研磨科技到最新的精確微複製科技，3M全球科技團隊致力於不斷重新定義CMP研磨盤科技的前沿。 研發中心和工廠遍佈全球，可提供便利的產品支持和迅捷的產品供應。
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3M™ Trizact™ 研磨盤
- 先進節點的切削表面
- 通過獨有的微複製工藝實現
3M™ 鑽石研磨盤
- 鑽石金屬研磨盤
- 可靠，可控制修整的性能
3M™ CMP研磨刷
- 無金屬結構的研磨刷
- 經濟實用、易清潔的研磨墊
與常見的CMP研磨墊完美相容的研磨盤
3M研磨盤可以與許多常見的研磨墊其硬度、密度完美配合。 請查詢適合您的產品，或者讓我們的技術團隊測試后為您定製合適的產品。
行業創新之作：CMP研磨盤
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T系列強化了傳統的3M™ Trizact™ 研磨盤平臺，優化了表面形貌，增強了研磨墊活性，減緩研磨墊磨損的衰減，甚至更一致的性能。
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C系列在微米尺度上帶來了超精確的鑽石排布，以進一步説明控制共平面度和平坦度，從而在CMP研磨中獲得更一致的性能。
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3M™ CMP研磨盤塗層這些先進的塗層適用於任何3M™ 鑽石研磨盤、3M™ 鑽石研磨盤C系列、3M™ Trizact™ 研磨盤或3M™ Trizact™ 研磨盤T系列，有助於減少晶圓劃傷的缺陷。 測試表明，與傳統的研磨盤相比，3M的產品可以大大減少高達75%的金屬析出。
需要研磨墊？3M可以幫忙。
保持一致性。 提高產量。 減少耗材。 新的3M™ Trizact™ CMP研磨盤可以説明改善您的先進節點工藝。
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