3M™ Trizact™ 鑽石研磨盤

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利用3D技術做成精確的陶瓷襯底,其中用CVD技術塗敷一層類鑽石層

精確控制的顯微複製結構

每一顆研磨盤間產品良好的一致性,以及無金屬化的切屑表面

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產品亮點
  • 利用3D技術做成精確的陶瓷襯底,其中用CVD技術塗敷一層類鑽石層
  • 精確控制的顯微複製結構
  • 每一顆研磨盤間產品良好的一致性,以及無金屬化的切屑表面
  • 對有金屬污染顧慮的高階制程的應用,是種理想選擇

利用3M在研磨、陶瓷、微複製等專業技術,3M™ Trizact™ 研磨墊是專為高階CMP工藝開發的一種創新研磨墊。

  • 顯微特寫:Trizact CMP墊上的微複製圖案

    顯微複製——一致性和精確性的重要

    3M™Trizact™CMP研磨盤具有精密的3D研磨結構,對於看重一致性的工藝來說是理想的選擇。陶瓷結構採用微米級鑽石塗層。通過顯微複製——3M應用於半導體製造中先進制程的核心技術——這些結構在3M Trizact™CMP研磨墊表面平整重現。此外,您可以選擇各類形狀如尖端型,高度分散型,以便適配您的應用。研磨時間更長,性能一致,CMP研磨盤壽命更長,表面磨損度可精準預測。

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